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六氟丁二烯

化学式：C4F6
纯度规格：4N
用途：刻蚀
主要应用领域：集成电路（LOGIC/DRAM/3D NAND）

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产品描述

参数

六氟丁二烯主要应用于大规模集成电路先进制程的刻蚀工艺，与传统刻蚀气体相比，六氟丁二烯刻蚀速率更快、选择性和深宽比更高、环境更友好，在先进制程中应用前景广阔，公司生产的六氟丁二烯产品纯度达4N，产品已进入客户验证阶段。

关键词:

六氟丁二烯

刻蚀

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