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前驱体的介绍

2025-06-05

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前驱体通常为高纯度化合物(如金属有机化合物、氢化物等)。它们在气相沉积(CVD、ALD)等工艺中经汽化、分解或反应,在晶圆表面形成纳米级薄膜(如金属、氧化物、氮化物),是制造晶体管、互连结构等关键器件的核心材料,其纯度和反应可控性直接影响芯片性能与良率。

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